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HTSC弘泰
EN 14175-3
抗干擾氣流
測試結果如下
上限標準為
Cave < 0.65 ppm; Cmax <1.95 ppm
測試裝置
(a) 追蹤氣體釋放器設置位置與6.3.1相同。
(b) 採樣探頭設置位置與6.3.2相同。
(c) 一長方形的平板,長為1.90 ± 0.01 m,寬為0.40 ± 0.01 m,厚度為20 ± 5 mm,垂直安裝於氣櫃前,距離內部測量面最遠處400 ± 5 mm,並設於地板上方200 ± 5 mm。此平板以1.0 ± 0.1 m/s之速度往復橫越櫃面,且移動方向平行於櫃面。
測試步驟
(a) 依4.4.2所述,將氣櫃櫃門固定於測試高度位置。
(b) 平板每一次移動通過兩邊氣櫃櫃面邊界超過600 ± 5 mm,每一趟往返移動需間隔30 ± 2秒。
(c) 測量及紀錄追蹤氣體SF6之濃度。
(d) 於60秒後將平板以上述速度移動橫越氣櫃櫃面共6次。
(e) 再繼續測30秒後結束。並依5.4.4分析量測結果。
量測結果處理
對於測試資料分析如下:
(a) 捨棄起始59秒內所測得的數據。
(b) 計算由測試第60 秒至240 秒所測得追蹤氣體SF6的平均濃度(測得的結果四捨五入至小數第二位)。
(c) 記錄由測試第60 秒至240 秒所測得追蹤氣體SF6的平均濃度及最大濃度紀錄。
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